REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting 20 g

Dokonalá pleť bez viditeľných pórov? S podkladovou bázou REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting to možné je. Pokryje vašu pleť zamatovou vrstvou a vytvorí tak ilúziu dokonalej pleti, ktorá je pripravená na nanesenie make-upu. Navyše vám upravený make-up vydrží vďaka báze REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting oveľa dlhšie.

Kľúčové vlastnosti podkladovej bázy REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting 20 g

• Podkladová báza, ktorá vytvorí jemný film na pleti
• Vďaka báze REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting je pleť dokonale hladká a bez viditeľných pórov
• Priľne k pleti ako druhá koža
• Pripraví pleť na nanesenie make-upu
• S bázou REVOLUTION Conceal & Fix Pore Perfecting vydrží make-up ešte dlhšie

Zloženie:
Octyldodecanol Phenyl Trimethicone C13-16 Isoparaffin Dimethicone Dimethicone Crosspolymer Ceresinum SILYL Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane Crosspolymer Polyethylene Mica Zea Mays (Corn) Gerbe Oil Sesquioleato de sorbitanu Sorcitan Sesquioleato Tocopheryl Acetatea Phenoxyethanol.